摘要
日本大日本印刷株式会社（DNP）宣布开发出10纳米的纳米压印（NIL）技术。该技术采用自对准双重图案（SADP）方法，能够支持1.4纳米工艺的逻辑芯片生产，其能耗据称仅为当前主流工艺的十分之一。DNP公司已与硬件供应商启动技术评估，预计在完成客户验证和建立量产体系后，于2027年开始量产出货，旨在为市场提供一种替代EUV光刻的高精度芯片制造方案。
线索
该技术为半导体制造设备领域带来了潜在的颠覆性机遇，尤其对于寻求降低先进制造成本的芯片制造商而言。若NIL技术能达到与EUV相当的良率和生产效率，其仅为主流工艺十分之一的能耗优势将构成巨大竞争力，可能打破当前EUV光刻机的市场垄断格局。然而，投资风险同样显著。首先，技术从实验室到大规模量产的可行性尚未被证实，良率和产能是关键考验。其次，转换到NIL技术需要对现有生产线和供应链进行重大改造，行业采纳的壁垒较高。最后，2027年的量产时间表存在不确定性，且期间EUV技术自身也在持续进步。因此，该技术的商业成功和投资回报仍面临技术、市场和时间的多重挑战。
正文
日本作为全球第二大光刻机供应商，正积极开发可替代EUV的光刻方案，其技术路线为纳米压印（NIL）技术。日本佳能、尼康等公司此前已展示过相关技术。
日本大日本印刷株式会社（DNP）宣布开发出10纳米的纳米压印（NIL）技术。该技术能够将电路图直接印在基板上，并可用于1.4纳米工艺的逻辑芯片曝光。
在技术细节上，DNP的10纳米纳米压印技术采用自对准双重图案（SADP）技术。通过一次曝光和两次图案转移，能够制造出双倍精度的芯片，以满足先进工艺逻辑芯片的要求。该技术据称在功耗方面具有明显优势，能耗约为当前主流工艺的十分之一。
DNP公司研发NIL技术已超过20年。目前的技术水平已具备部分替代EUV光刻的潜力，可为芯片制造商提供一种高精度工艺生产的替代选择。该公司现已与硬件供应商启动合作，进行技术评估。
DNP公司预计，在完成客户验证并建立量产与供应体系后，将于2027年开始量产出货。
发布时间
2025-12-18 21:43:00
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