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ASML CEO警告:技术封锁或加速中国自主研发

2025-12-17

摘要

ASML首席执行官克里斯托夫·富凯表示,公司当前对华出口的光刻机技术水平,相较于最新的高数值孔径光刻技术落后八代,技术差距超过十年,相当于2013至2014年的产品水平。他同时警告,若西方过度收紧出口限制,可能迫使中国加速自主研发,长远来看将导致西方失去中国市场,甚至未来中国可能成为相关技术的出口国。

线索

风险:对ASML及其西方供应链而言,核心风险在于过度限制可能催生一个强大的竞争对手。中国若成功实现高端光刻技术的自主可控,将彻底改变全球市场格局,导致ASML永久失去中国市场,并面临一个潜在的低成本竞争对手。这不仅是收入损失,更是技术领先地位的挑战。

机会:对中国本土半导体设备制造商而言,出口限制创造了明确的战略窗口期。巨大的国内市场需求和政策支持将加速资本投入和研发进程。投资于中国本土光刻机及相关产业链的企业,可能在未来获得超额回报,尤其是在中端技术成熟并向高端突破的过程中。

正文

阿斯麦首席执行官克里斯托夫·富凯表示,目前公司对华出口的设备,比最新的高数值孔径光刻技术落后八代。他指出,这些出口光刻机的技术水平相当于该公司在2013至2014年向西方客户销售的产品,技术差距超过十年。

富凯认为,如果西方过度收紧限制,将中国逼至别无选择的境地,反而会迫使中方下定决心彻底摆脱对西方技术的依赖,并自主研发替代产品。从长远来看,这将导致西方彻底失去这一庞大市场。

他提出问题,关键在于要将这种技术差距拉大到何种程度,是让中国落后5年、10年,还是15年。富凯补充说,中国已经在很多领域实现了自主研发,假以时日,甚至可能反过来向西方出口这些产品。

发布时间

2025-12-15 13:25:00

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