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ASML即将出货EUV光刻机EXE:5200，英特尔成为首个买家。
线索：
ASML最新的EUV光刻机EXE:5200相较于前代产品将具备更高的晶圆吞吐量，旨在支持2nm工艺的量产。这一技术进步也表明，半导体行业在不断追求更高的生产效率和更小的晶体管功能，从而推动技术的演进。ASML拒绝向中国厂商出售这一设备，可能带来全球半导体供应链的进一步分化，对于相关投资者需关注市场需求及国家政策的变化。
正文：
ASML已确认即将发货最新款EUV光刻机EXE:5200。与上一代EXE:5000相比，EXE:5200提供了更强的性能，并且不会向中国厂商出售。官方表示，EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进版本，具备更高的晶圆吞吐量，EXE:5000每小时加工185片晶圆以上，能够更好地支持2nm工艺的量产。
在此之前，ASML宣布英特尔已订购业界首台TWINSCAN EXE:5200光刻机。这种设备具备高数值孔径的特性，并可每小时处理200多片晶圆，标志着英特尔在采用0.55 NA EUV技术方面迈出重要一步。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供0.55数值孔径，较前代EUV光刻机的0.33数值孔径透镜在精度上有所提升，能够为更小的晶体管功能提供更高分辨率的图案制作。
EUV 0.55 NA的设计目标是从2025年起在多个未来节点中实现首次部署，随后还将发展出类似密度的内存技术。
发布时间：
2025-02-01 16:11:00
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